越來越多發表的科學文獻證明了QSense^®技術的可靠性。

該技術的核心是石英晶體在負載電壓下以一個特定頻率振蕩。當晶體表面上的質量發生改變時，晶體的振蕩共振頻率也會隨之變化。通過這種方法，可以在納克級靈敏度上測定界面質量和結構變化。該方法可實時、無需標記地測量任何可形成薄膜的材料表面。

QSense^®可以測量質量變化，還可以同時測量耗散因子，從而提供薄膜的結構和粘彈性信息。它可以提供諸如吸附膜的分子厚度、結構、含水量等信息。此外還可以檢測反應前、進行中和結束后的表面吸附層的變化。 

金屬、聚合物、化學改性表面，只要能在芯片表面上鋪展成薄膜的材料，都可以成為我們的定制芯片涂層。